5nm芯片无需光刻机！中国科技公司已申请制造专

9月15日，一家中国科技公司申请的 5纳米芯片制造的直接蚀刻方法 专利正式公布。

摘要显示，该发明涉及芯片设计及制造。这项发明的亮点在于，不用EUV光刻机或DUV光刻机，不需要光刻过程，直接蚀刻就可以制造5纳米芯片。此专利一经公布，便引起了大量网友的关注。对于申请这项专利的中国科技公司，相信不少网友都很好奇。

申请这项专利的中国科技公司名叫 上海创消新技术发展有限公司 。根据企查查APP提供的信息，上海创消新技术发展有限公司于2019年3月13日正式成立，注册资本为50万元人民币，所属地区为上海市青浦区，法定代表人为刘明革，他同时也是上海敏革化学科技有限公司的股东和监事，持有上海创消新技术发展有限公司85%的股份，另外15%的股份由 刘佳慧 持有，并没有什么大公司持有上海创消新技术发展有限公司的股份。

工商信息显示，上海创消新技术发展有限公司的注册资本包括机械技术、电子技术、化工技术、建筑技术、生物技术领域内的技术开发、技术转让、技术服务和技术咨询。值得注意的是，这家公司的经营范围并没有涉及芯片相关的内容，例如芯片设计和芯片制造。